装置
高速プラズマ回転電極球状粉末作製装置 H-PREP2020-1
仕様
1.装置の概要
プラズマ回転電極法PREP(Plasma Rotating Electrode Process)はプラズマ照射で高速回転の電極棒を溶解させ、遠心力により溶融金属を飛散させて金属粉末を作製する技術です。しかし、PREP法で作製した粉末の唯一の欠点は粗粒粉が多いことです。その原因の一つは遠心力が足りないことです。弊社は東北大学金属材料研究所千葉晶彦教授のご指導の下、今までにない最高回転速度と最大電極直径の新PREP装置を開発しました。従来の装置より遥かに大きい遠心力で細い粉末の回収率は上昇しました。更に、チャンバー内の雰囲気を制御することが可能であるため、溶解や飛散する粉末の凝固等の研究に対して、非常に有利です。
また、弊社は東北大学の現役の材料、宇宙、機械、流体分野の著名研究者のご支援により創立した会社であり、これまでにない先端技術のサポートおよび研究等に関するご助言をいただきながら研究開発を推進しています。
本装置は、多品種・少量生産に対し、多彩・多様なオプションで応対することが可能です。そのため素材開発・先端材料研究に必要となる少量多品種製造に最適な粉体供給が実現できます。用途は3D金属積層造形用、超急冷凝固合金製造、および粉末鍛造用金属粉末材料などです。
2.装置の特徴
粉末作製方法 | 粉末品質粒状、ポア等 | 細粉回収率 | 粉末のコンタミ | チャンバー内雰囲気ガス制御 |
---|---|---|---|---|
ガスアトマイズ | △ | ◎ | △ | 不可 |
現PREP法 | ○ | △ | ◎ | 無し |
新PREP法 | ◎ | ◎ | ◎ | あり |
3.装置の主な性能
- 電極棒回転数 :Max40000rpm
- 電極棒直径 :φ50~100mm
- 電極移動距離 :50mm以上
- ガス雰囲気調整:可能
- 多彩多様のオプション
4.装置の内部構成
- 真空チャンバー
- 電極回転機構
- 電極送り出し機構
- プラズマ機構
- 雰囲気制御部
5.製造可能な粉末粒径
- Ti6Al4V合金:平均粒径(70μm)20~150μm
- インコネル718合金 :平均粒径(50μm)10~100μm
装置作製・販売
金属粉末におけるプロセスパラメーターの単純化を実現化するため、ガスの巻き込みが無く、サテライトの付着が無い、円形度がほぼ1に近い真球形状の粉末を作製する装置の提供が可能です。